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產品介紹
XENOS XeMove載物臺使(shi)用先進的激光測量系(xi)統和(he)超聲(sheng)波壓電(dian)驅動技(ji)術，結(jie)合我們的光刻系(xi)統（測量分(fen)辨率為10nm），可獲得優于100nm的縫合和(he)覆蓋精度。
XeMove：電(dian)子束光(guang)刻平臺
緊湊的設計(ji)允許用(yong)作子階(jie)段(duan)或更換階(jie)段(duan)，只需要電氣(qi)室饋通。所有組件都(dou)是(shi)高真空(kong)兼容且完全非鐵磁的。緊湊的設計(ji)包括激光(guang)測量系統和(he)壓電驅動部件。軸上測量將偏航誤差的影響降至更低(di)。行(xing)程范圍從55毫(hao)米到120毫(hao)米不等(deng)。
性能特點
- 集成到現有系統中不需要復雜且昂貴的腔室修改。
- 測量系統不需要激光視口，載物臺電機不需要機械饋通，所有有源部件都放置在真空室內，并通過標準電氣饋通進行電子控制。
- 對于某些腔室設計（例如JEOL JSM-7xxx），載物臺可以通過負載鎖插入，并通過腔室內的特殊電ZIF觸點連接。
- 當平臺停止時，驅動電機斷電，位置被機械鎖定，從而將總功耗降至更低，防止加熱和相關漂移。
技術參數
產地：美國
類型：電子束光(guang)刻平臺
測量(liang)分辨率(lv)：10nm
行程范(fan)圍：55mm到120mm
縫合精度：優于100nm
覆蓋精度：優(you)于100nm
激光視口：不需要
機械饋通：不需要
觸點連接：ZIF
兼容：高真空
組件：非鐵磁
部件驅動：壓電
產品參數
