SUSS MicroOptics通過使用反應離子刻蝕(shi)(RIE)將所需的(de)結構轉(zhuan)移到(dao)基板上,從而(er)在硅(gui)片和(he)(he)熔融二氧化硅(gui)中以晶(jing)圓(yuan)級制(zhi)造(zao)定(ding)制(zhi)的(de)單片微光學器件。該技術可提(ti)供高分辨率和(he)(he)均勻(yun)性,并(bing)(bing)能夠(gou)合(he)并(bing)(bing)復雜的(de)形式,例如溝槽,空腔,基座,對準點和(he)(he)識別標記。組件可以鍍AR和(he)(he)/或金屬化,并(bing)(bing)以多種(zhong)格式交付。
沒有孔的MLA:熔(rong)融石英,透鏡,四邊形
網格
間距:130um
ROC:1.218mm±5%
無增透膜
形狀:矩形
厚度:0.9mm
尺寸:15mm x 15mm±0.05mm